Характеристики на технологията за обработка на електронни лъчи

Характеристики на технологията за обработка на електронни лъчи

Електронният лъч може да бъде фокусиран много фино (до l ~ 0,1 m), така че може да бъде микромашинен.
Гамата от обработени материали е широка. Може да обработва различни механични свойства на проводникови, полупроводникови и непроводникови материали.
Ефективността на обработката е много висока.

Обработка във вакуум, по-малко замърсяване, обработващата повърхност не е лесно да се окисли.
Обработката на електронен лъч се нуждае от пълен набор от специално оборудване и вакуумна система, цената е по-скъпа, така че при производството е ограничена до известна степен.

Принцип на обработка на йонен лъч

При вакуумни условия йонният лъч, генериран от йонния източник, се ускорява, фокусира и проектира върху повърхността на детайла. Тъй като йонът има положителен заряд, масовият му брой е хиляди или дори десетки хиляди пъти по-голям от електрона, той има голямо въздействие кинетична енергия при удряне на детайла, чрез микромеханично въздействие за постигане на обработката на детайла.

Принципът на обработка на йонния лъч и електронния лъч е един и същ. Основната разлика е, че йоните имат положителен заряд. Тяхната маса е хиляди или дори десетки хиляди пъти по-голяма от електроните, така че те се ускоряват по-бавно в електрическото поле.

Обработката с електронен лъч се обработва чрез преобразуване на електрическа енергия в топлинна енергия. Обработката на йонния лъч се обработва чрез преобразуване на електрическата енергия в кинетична енергия.

IKS PVD Electron лъч с оптично покритие ， IKS-OPT2700, Повече подробности, добре дошли контакт iks.pvd@foxmail.com