Основно устройство за обработка на електронен лъч

Основно устройство за обработка на електронен лъч

Устройството за обработка на електронни лъчи се състои главно от следните части:

E лектрон пистолет

Устройство за получаване на електронен лъч, което включва:
1. Електронно-емисиен катод - изработен от волфрам или тантал и излъчващ електрони при отоплителни условия.
2, контролирайте портата - не само контролират силата на електронния лъч, но имат и първичен фокусиращ ефект.
3. Ускорен анод - обикновено е заземен и тъй като катодът има високо отрицателно налягане, той може да задвижва електрони за ускорение.

Вакуумна система

Осигурете вакуума, необходим за електронна обработка. Степента на вакуум при общата обработка на електронния лъч се поддържа при 1.33 × 10-2 ~ 1.33 × 10-4 Па.

Система за управление и захранване

Системата за управление включва управление на фокусирането на лъча, управление на положението на лъча, контрол на силата на лъча и контрол на преместването на масата.
Контрол на фокусиране на лъча: увеличава енергийната плътност на електронния лъч, което определя диафрагмата или ширината на шева на точката на обработка.
Метод на фокусиране: първо, електростатичното поле с високо напрежение се използва за фокусиране на потока на електроните във фин лъч; Друг метод е да се използва "електромагнитна леща", за да се фокусира върху магнитно поле.

Контрол на позицията на лъча: променя посоката на електроните.
Контрол на преместването на масата: контролирайте позицията на масата по време на обработката.
Захранване: високи изисквания за стабилност на напрежението, често използвани за стабилизиране на захранването.

IKS PVD Electron лъч с оптично покритие ， IKS-OPT2700, Повече подробности, добре дошли контакт iks.pvd@foxmail.com