Вакуумно изпаряване и нанасяне на покритие

Вакуумно изпаряване и нанасяне на покритие

Методът за нанасяне на покритие чрез вакуумно изпаряване (наричан като покритие чрез вакуумно изпаряване) е метод за нагряване на суровината, която трябва да се оформи във филм в съда за изпаряване във вакуумната камера, за да се изпарят неговите атоми или молекули от повърхността, за да се образува поток от пара, падане върху твърдата (наречена подложка или субстрат) повърхност, кондензация за образуване на твърд филм. Разпрашващото покритие се отнася до процеса на използване на функционални частици за бомбардиране на повърхността на целевия материал при вакуумни условия, така че повърхностните атоми на целевия материал да могат да получат достатъчно енергия и да избягат. Целевият материал за разпрашаване се отлага върху повърхността на субстрата, което се нарича разпрашващо покритие. Инцидентните йони във филма за разпръскващо покритие обикновено се получават чрез светещ разряд в диапазона от 10^-2Pa ~ 10Pa, така че разпръснатите частици лесно се сблъскват с газовите молекули във вакуумната камера в процеса на летене към матрицата, така че посоката на движение да е произволна и депозираният филм лесно да бъде еднороден. Развитието на мащаба на магнетронното разпрашващо покритие, скоростта на отлагане е висока, повторяемостта на процеса е добра, лесна за автоматизиране, е подходяща за широкомащабно покритие за архитектурна декорация и функционално покритие на промишлени материали и тип TGN-JR с многодъгово или магнетронно разпръскване на повърхността на намотката от пенопласт и влакнесто покритие от никел Ni и сребро Ag.

IKS PVD компания, машина за декоративно покритие, машина за покритие на инструменти, DLC машина за покритие, машина за оптично покритие, PVD линия за вакуумно покритие, проектът до ключ е наличен. Свържете се с нас сега, имейл:%7б%7б0%7д%7г