Това, което е причина, ще повлияе на покритието от филм ITO чрез машина за вакуумно покритие

Каква е причината ще повлияе на филмното покритие на ITO чрез вакуумно покритие

ITO филми ще имат различни характеристики в процеса на покритие с впръскване, понякога покритието на повърхността е относително ниско, явлението на питинг, понякога ще има зона с висока корозия.

По време на ецването ще има и линейни радиални драскотини или високи резистентни ленти, понякога ще има микрокристален жлеб.

Генерирането на различни характеристики като цяло зависи от избора на материала на целта и стъклото, режима на температурата и движението, използвани по време на покриването с пръски.

Текущо обичайно използваните ITO целеви материали, получени чрез калциниране, са съставени от прах от индий (In2O3) и калаен оксид (SnO2), смесени в съответствие с определено съотношение, обикновено масовото съотношение е 90% 10% In2O3 и SnO2, отново след преработване чрез формоване чрез серия от производствени процеси, синтеровани при 1400 ℃ ~ 1600 ℃ кислород с висока температура, окончателно образуване на тъмно сив керамичен полупроводник ITO (индийски калаен оксид).

Като цяло, ние можем да познаваме качеството на целевия материал на ITO чрез външния вид. Тъмно сивото е най-доброто. Напротив, колкото по-тъмен е качеството, толкова по-лошо е.

Чрез проучване, в процес на вакуумно покритие на машина за филтриране на разпръскване, с помощта на магнетронно разпрашване, базално регулиране на температурата на около 200 ℃ може да гарантира, че повече от 85% от тънък филм при висока видимост на светлината, най - ниската съпротива и филм кристалност с увеличаване на \ t температурата на субстрата се увеличава постепенно.

Повече от 200 ℃ след скоростта на предаване са склонни да отслабват; Използването на електронно лъчево изпарение, заедно с температурата на отгряване, размера на зърната, топографията на повърхността, еднаква стабилност, повече от 600 ℃, след като размерът на частиците, формите и агломерацията на малки частици са сериозни, морфологията на повърхността на мембраната.