Характеристики на PVD нанопокрития
May 22, 2019| Характеристики на PVD нанопокрития
Има три основни метода за физическо отлагане на нано-покрития: вакуумно изпарение, разпрашаване и йонно отлагане. Вакуумното изпаряване е да се изпари изходният материал в частици (атоми или йони) чрез електронно лъчево нагряване, лазерно нагряване и др. и след това ги депозират върху повърхността на детайла, за да образуват покритие. Покритието има относително повече пори, които имат общо сцепление с субстрата. Разпрашването покрива детайла като анод, а мишената като катод. Аргоновият йон, генериран от аргонова йонизация, се използва за продухване на целевите атоми и за отлагането им върху повърхността на детайла. Покритието има по-малко пори и е добре комбинирано с субстрата. Йонното покритие е да се направи материала в атоми чрез изпаряване, разпрашаване или химически методи и да се йонизира от плазмата около субстрата. Под действието на електрическото поле покритието се образува чрез летене към субстрата с по-голяма кинетична енергия. Покритието е равномерно и плътно, без да има пори и добре комбинирано с субстрата.
Нанофилмите от титанов оксид се получават чрез dc магнетронно разпрашаване. Налягането в камерата за разпрашаване се изпомпва до 1,3-104р, след което се напълва с Ar, О2 и CF4, общото налягане е 1.3pa (количеството на инжектиране се контролира по време на разпрашаване). Дебелината на фолиото се пропуска под постоянно напрежение на разпрашаване (700 v), за да се променят условията на разпръскване на контрола, контрол на температурата на основната плоча за разпрашаване в 100 ~ 400 ℃ . Електрохромните характеристики са открити в LiC1O4 и пропилен карбонат. Въпреки това, повърхността на филма е повлияна от газ и заредени частици, а работата на филма е силно повлияна от плазменото състояние, а състоянието на разпрашаване не е лесно да се контролира строго, което също е негов най-голям недостатък.
С цел по-нататъшно подобряване на качеството на нано-покритието, са разработени и извлечени различни съвременни технологии за PVD чрез комбинация от различни технологии. Различни техники за разпръскване на магнетрони са разработени чрез въвеждане на магнитно поле в техниката на разпрашаване, в която доминира електрическото поле. С цел укрепване на химическия процес на образуване на филм, в процеса на изпаряване, разпрашаване и йонно покритие се въвежда реактивен газ, като по този начин се появява технология за реактивно изпаряване, технология на реактивно разпрашаване и технология на реактивно йонно покритие. В допълнение, има пулсово лазерно отлагане (PLD), магнетронно разпрашаване (MSPLD), йонизирано магнитен разпрашване (йонизирано магнитен разпрашване), молекулярно-лъчева епитаксия (MBE), миграционен растеж и други нови мембранни технологии.
Може да се види, че с развитието на науката и технологията границата между CVD и PVD не е ясна и двете проникват взаимно, което прави двете технологии за подготовка на покритието по-съвършени.
IKS PVD coating декоративно покритие машина инструменти покритие машина coating контакт: iks.pvd@foxmail.com
