Изпаряване PVD вакуумно покритие
May 18, 2021| изпарение PVD вакуумно покритие
Изпаряването на вещество чрез нагряване, за да се отложи върху твърда повърхност, се нарича изпарително покритие. Този метод е предложен за първи път от М. Фарадей през 1857 г. и се е превърнал в една от често използваните техники за нанасяне на покрития в съвремието.
Изпаряващият се материал като метал и съединение се поставя в тигела или се окачва на горещата тел като изпаряващ се източник, а подложката на детайла за покритие, като метал, керамика и пластмаса, се поставя пред тигела. След като системата се изпомпва до висок вакуум, тигелът се нагрява, за да се изпари материалът в него. Атомите или молекулите на изпарения материал се отлагат върху повърхността на субстрата чрез кондензация. Дебелината на филмите може да варира от няколкостотин ангстрема до няколко микрона. Дебелината на филма се определя от скоростта на изпаряване и времето на изпаряващия се източник (или от количеството материал) и разстоянието между източника и основата. За покритие с голяма площ често се използват въртящи се субстрати или многократни източници на изпарение, за да се осигури еднородност на дебелината на филма. Разстоянието от източника на изпарение до субстрата трябва да бъде по-малко от средния свободен път на молекулите на парата в остатъчния газ, за да се избегне химическо взаимодействие, причинено от сблъсъка между молекулите на парата и молекулите на остатъчния газ. Средната кинетична енергия на молекулите на парата е около 0,1 ~ 0,2 електрон волта.
Фирма IKS PVD, машина за декоративно покритие, машина за покритие на инструменти, машина за оптично покритие, линия за вакуумно покритие PVD, проектът до ключ е достъпен. Свържете се с нас сега, имейл: iks.pvd@foxmail.com