Преглед на технологията HiPIMS

Технологията за разпрашване с магнетрон се използва широко в областта на подготовката на тънки филми. Прилагането на декоративно покритие и покритие на инструментите е относително обичайно.

Въпреки това, технологията за обработка на магнитонова пулверизация има много ограничения. Например, когато пулверизиращият ток е голям, което означава, че плътността на мощността на магнетронната пулверизираща мишена е ограничена от целевия топлинен товар, бомбардирането на целта с прекомерно положителни йони може да доведе до прегряване и изгаряне на целта за разпрашаване. Освен това, той има и недостатъците на ограничена разпрашаваща енергия и ниска степен на йонизация на метали.

През последните години е разработена високопроизводителна магнеттронна пултираща технология (HiPIMS) в страната и чужбина и това ограничение е значително отслабено. Пиковата мощност на пулсиращото магнитоново разпрашване с висока мощност е около 100 пъти по-голяма от тази на обикновеното магнетроново разпрашване. Скоростта на йонизация на разпратения материал е изключително висока и този силно йонизиран лъч не съдържа големи частици. Така че висококачественият филм може лесно да бъде получен чрез технологията HiPIMS.

Тъй като времето за действие на импулса е в рамките на няколкостотин микросекунди, средната мощност на HiPIMS е сравнима с тази на обикновен магнеттронен разпрашване, така че изискването за охлаждане на целта на магнетрона не се увеличава. Макар че моментната мощност на високоенергийната пулсираща магнитонова пулверизация е висока, нейната средна мощност не е висока, затова тя може да се използва широко.