Основното предимство на ALD

Едно от основните предимства на ALD е способността му да отлага конформни и еднакви филми върху сложни триизмерни структури, включително структури с високо аспектно съотношение, с отлично стъпаловидно покритие. Това прави ALD особено подходящ за производството на модерни микроелектронни устройства, като транзистори, кондензатори и устройства за съхранение, където прецизният контрол на дебелината и състава на филма е от съществено значение за работата на устройството.

IKS PVD компания, машина за декоративно покритие, машина за покритие на инструменти, DLC машина за покритие, машина за оптично покритие, PVD линия за вакуумно покритие, проектът до ключ е наличен. Свържете се с нас сега, имейл: iks.pvd@foxmail.com