Новини

Влияние на параметрите на процеса на магнетронно разпрашване - Дебит на N2

Характеристики на отлагане на елементарна мишена и мишена от сплав

Технология за високомощно импулсно магнетронно разпръскване

Техника на неравновесно магнетронно разпръскване в затворено поле

Принцип и характеристики на магнетронно разпръскване

Приготвяне на (Cr,Ti,Al)N кватернерни покрития Обща технология за нанасяне на...

Техника за физическо отлагане на пари за (Cr,Ti,Al)N кватернерни покрития

Многокомпонентна система за покритие

Покритие от нитрид на преходен метал

Приложение на технологията за магнетронно разпрашване върху (Cr,Ti,Al)N покрития

Въздействие на отклонение върху слоевете на покритието

Сравнение на отклонение на постоянен ток и отклонение на импулса