Прилагане на изпарение точната електронна греда

Прилагане на изпарение толко-лъча - приготвяне на TiO2 фолио чрез изпаряване на електронния лъч

Принцип на покритие тоалите на електрони лъчи за приготвяне на филм TiO2, използвайки система за автоматично оптично покритие ИНТЕЛИТ-39 с помощта на йонен лъч, както е показано на фигурата по-долу.

1. Входящ акумулина за охлаждане на водата; 2. Отвор за охлаждане на водата; 3. Тигел; 4. Сноувна намотка; 5. Предавател на електронен лъч; 6. Лампа за отопление; 7. Рамка на субстрата; 8. Двигателят; 9. Филм за мониторинг; 10. Работното напрежение на пробата електрон пистолет, приготвено от обшивка на йонния източник е 10 kV, токът е 200 А, а температурата на отлагането на вакуумнакамера е 145 ~ 155 ° C. Чернозърнест t2O3 с чистота 99.99% е избран за мембранен материал. Cc-105 катодният йонен лъч се използва за спомагателно отлагане. По време на отлагането вакуумната камера се напълва с O2 с чистота 99.99% като газ за реакция. Преди покритието, основата се почиства със стъклен разтвор, изплакната с дейонизиранавода и изсушете с азот. След това субстратът се почиства с 99,9% ацетон и безводна етанол ултразвукова вълна за 15 мин всяка. След изсушаване със специална хартия за избърсване, тя се зарежда във вакуумната камера. Когато вакуумът се изпомпва до 6.5× 10-4pa чрез механична помпа и дифузионна помпа, се определя автоматичният процес на обшивка. Когато субстрата се нагрява до температура на отлагането на 150 °C, йонният източник започва бомбардиране на субстрата, а енергията се контролира при 60 ~ 90 eV за 10 мин.

след това електрон ът автоматично се загрява и изпарява филмовия материал, а скоростта на отлагане е 0.38 ~ 0.42 nm/s. Когато фолиото се депозира в проектната дебелина от 440 nm, програмата автоматично затваря електрон пистолет и покритието е завършено. След нанасянето на покритието вакуумната камера се охлажда естествено до стайна температура и пробата е изваена. Спектрален тест на пробата TiO2 е проведен с спектрофотометър Lambda900 (диапазон на изпитване 175 ~ 3 3300 nm). Действителната дебелина, коефициент на екстинция и коефициент на пречупване на TiO2 филм са изчислени по метода на маклаудския софтуерен плик. Ефектите на различни вакуумни градуси върху филмоватаy, рефрактивен индекс и коефициент на поглъщане на TiO2 са изследвани с различни потоци кислород с висока чистота във вакуумната камера. Когато тънкослойният слой на TiO2 се отлага чрез изпаряване, подпомагано от йонен източник при висока степен на вакуум, промяната на вакуумната степен с преминаването на кислород а се посочва в следващата таблица. Кислородните молекули във вакуумната камера се йонизират в кислородни йони и реагират напълно с молекулите на Ti2O3, кислородът, загубен в разграждането на Ti2O3, се допълва и полученият TiO2 във филма е сравнително чист. Ако обаче подаването на кислород е недостатъчно или реакцията между Ti2O3 и O2 е недостатъчна, фолиото с високо абсорбиращ титанов оксид tino2n-1 (n = 1, 2,... , 10). С увеличаването на кислородния поток, вероятността от сблъсък между молекулите на TiO2 пара и молекулите на кислорода в процеса на покачване на изпарението се увеличава и се губи енергия, което намалява кинетичната енергия на TiO2, депозирана върху повърхността на субстрата и засяга адхезията и утаяването на депозираното фолио. За оптични тънки филми, йонният източник асистът може да увеличи кинетичната енергия на молекулите върху повърхността на субстрата, не само има значително въздействие върху показателя за пречупване на филма, но също така може да подобри плътността на филма и устойчивостта на влага, а адхезията на филма върху субстрата също е значително подобрена.

IKS-OPT2700 оптична машина за вакуумно покритие E-gun, повече подробности, контакт: iks.pvd@foxmail.com